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缅怀先烈 致敬英雄

ASML 的 EUV 曝光系统。P5 PH1 将用于 1c nm 制程 DRAM 生产,将同时制造通用内存和 HBM。三星电子预计将从 2027Q2 开始为平泽 P5 PH1 安装图案化设备,届时该阶段的洁净室施工也将完成,有望在 2027 年内对产能带来有意义的贡献,满足英伟达 "Rubin" 与其它 AI XPU 的需求,纾解当前 DRAM 市场的供应紧张态势。广告声明:文内含有的对外跳转链接

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